一、濺射靶材是什么

濺射靶材是安裝在真空鍍膜機(jī)上鍍膜用的，可鍍導(dǎo)電膜、絕緣膜、裝飾膜，超硬膜、潤滑膜、磁性膜等功能薄膜。

磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式，就是用電子槍系統(tǒng)把電子發(fā)射并聚焦在被鍍的材料上，使其被濺射出來的原子遵循動量轉(zhuǎn)換原理以較高的動能脫離材料飛向基片淀積成膜。這種被鍍的材料就叫濺射靶材。濺射靶材有金屬，合金，陶瓷化合物等。

二、濺射靶材工作原理

濺射靶材主要是由靶坯、背板等部分構(gòu)成，靶坯屬于高速離子束流轟擊的目標(biāo)材料，是核心部分，在濺射鍍膜的過程中，靶坯被離子撞擊后，表面原子被濺射飛散出來并沉積于基板上制成電子薄膜。因?yàn)楦呒兌冉饘購?qiáng)度較低，可是濺射靶材需要安裝在專用的機(jī)臺內(nèi)完成濺射過程，機(jī)臺內(nèi)部為高電壓、高真空環(huán)境，所以超高純金屬的濺射靶坯需要與背板通過不同的焊接工藝進(jìn)行接合，背板主要起到了固定濺射靶材的作用，以及良好的導(dǎo)電、導(dǎo)熱性能。

三、濺射靶材的應(yīng)用

濺射靶材主要應(yīng)用于電子及信息產(chǎn)業(yè)，如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等；亦可應(yīng)用于玻璃鍍膜領(lǐng)域；還可以應(yīng)用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業(yè)。