著錄信息
- 專利名稱：中高溫光譜選擇性吸收涂層
- 專利類型：發(fā)明
- 申請?zhí)枺?/em>CN201210442227.2
- 公開(公告)號：CN102954611B
- 申請日：20121107
- 公開(公告)日：20140917
- 申請人：北京市太陽能研究所集團有限公司
- 發(fā)明人：王軒,張敏,尹萬里,崔銀芳,孫守建,朱敦智
- 申請人地址：100012 北京市朝陽區(qū)北苑路大羊坊10號桑普大廈
- 申請人區(qū)域代碼：CN110105
- 專利權(quán)人：北京市太陽能研究所集團有限公司
- 洛迦諾分類：無
- IPC：F24J2/48,B32B33/00,C23C14/06,C23C14/35
- 優(yōu)先權(quán)：無
- 專利代理機構(gòu)：北京路浩知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002
- 代理人：韓國勝
- 審查員：鄧娜
- 國際申請：無
- 國際公開(公告)：無
- 進入國家日期：無
- 分案申請：無
關(guān)鍵詞
吸收層,選擇性吸收涂層,高溫光譜,金屬組分,光譜選擇性吸收涂層,金屬陶瓷復(fù)合膜,紅外反射層,高溫環(huán)境,工作溫度,鈍化層,發(fā)射比,反射層,粘結(jié)層,光熱,層膜,基底,大于
網(wǎng)站提醒和聲明
免責聲明：
本站為會員提供信息存儲空間服務(wù)，由于更新時間等問題，可能存在信息偏差的情況，具體請以品牌企業(yè)官網(wǎng)信息為準。如有侵權(quán)、錯誤信息或任何問題，請及時聯(lián)系我們，我們將在第一時間刪除或更正。
版權(quán)聲明>>
修改>>
申請刪除>>
平臺自有內(nèi)容（文字、圖片、界面、榜單、商標、LOGO 等）知識產(chǎn)權(quán)歸本站所有，未經(jīng)書面許可，禁止復(fù)制、轉(zhuǎn)載、商用。本站不生產(chǎn)產(chǎn)品、不提供產(chǎn)品銷售服務(wù)、不代理、不招商、不提供中介服務(wù)。本頁面內(nèi)容不代表本站支持投資購買的觀點或意見，頁面信息僅供參考和借鑒。
提交說明：
快速提交發(fā)布>>
查看提交幫助>>
注冊登錄>>
